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        批量濕蝕刻和清潔工藝涉及同時(shí)處理多個(gè)晶圓。將晶片浸入，并且通過過濾重復(fù)循環(huán)處理化學(xué)品，該過濾設(shè)計(jì)是為了去除晶片表面正在被蝕刻的顆粒。在多道次濕法蝕刻和清潔工藝中，具有較高流動性的過濾器可以增加熔池周轉(zhuǎn)以改善顆粒去除效率。

        XZC提供一系列耐化學(xué)腐蝕和低金屬材料的濾芯，可以改善這一工藝周轉(zhuǎn)率。我們的褶皺濾芯提供了關(guān)鍵的濕法蝕刻和清潔過程中通常需要的流量和使用壽命。